鑽石研磨液

具良好的分散穩定性,能保持長時間不沉降,粉體不易發生團聚。且磨削效率高,加工件表面粗糙度低,工件表面殘留顆粒少。

(BG-300S) 能在研磨盤上形成一層薄膜,除了提供潤滑作用及協助鑽石微粉平均分布在盤面上外,也可防止元件幹磨而損壞。本研磨液特別適用於對表面光潔度要求高的物料及元件,應用範圍包括光電產品、陶瓷、金屬物料及半導體基盤(substrates)等。

SiO2拋光液
  1. 良好的分散穩定性, 不易沉澱, 使用壽命長。
  2. 粒徑分布窄,不易造成刮傷,且雜質含量低。
  3. 易清洗,不會殘留在晶片上。
  4. 無毒、無環境荷爾蒙亦不含溶劑、無VOC 等環保問題。
  5. 可用於半導體、光電半導體材料,例如矽晶圓、碳化矽晶圓、藍寶石晶圓、砷化鎵晶圓、氮化鎵晶圓、精密光學元件…等的拋光。
固態蠟
  1. 流動性及黏著力佳。
  2. 對環境危害性小。
  3. 用溫水、鹼性溶劑、丙酮、異丙醇等液體皆可輕易的進行清洗,可縮短作業時間及清洗的流程。
  4. 適用於高精度之切削、研磨製程。
  5. 可針對客戶的需求進行客製化。
藍寶石基板洗淨劑 (2-0020)

對太陽能晶圓研磨、切割後表面所附著之有機物與粉塵的清洗性佳。另外對其他電子精密部品等表面附著之加工油、切削油之洗淨, 在搭配超音波、浸漬、噴洗方式清洗之後, 效果亦佳。

藍寶石基板洗淨劑 (2-3016)

為酸性藍寶石基板研磨後洗淨劑,可修正研磨後洗淨後有不明污點之藍寶石基板,同時具有增加基板白度並賦予光澤性功能。亦可適用於藍寶石基板拋光後酸性洗淨。